液中パーティクルカウンタでの測定と管理

液中パーティクルカウンタは、半導体用高純度化学薬品やフォトレジストなどの液体塗布材料中に含まれる粒子管理や、超純水、洗浄用化学薬品（例：酸、アルカリ、有機溶剤、フッ化水素酸）などの洗浄工程に関わる粒子管理に用いられます。
また、CMP（chemical mechanical polishing）用のスラリー中の粗大粒子の管理や、表面付着粒子の管理など、生産ライン内や受け入れ時の検査などにも用いられます。

エレクトロニクス産業（電子デバイス産業）において、薬液は洗浄をはじめ、酸化膜の除去やフォトレジストの剥離などに使用されます。特に、半導体、ハードディスク（HDD）、およびフラットパネルディスプレイ（FPD）の製造に代表される分野では、純水や薬液を多く使用します。
電子デバイスの微細化・高集積化により液体中の粒子管理は、品質や歩留りの向上のため欠かせないものとなっています。半導体製造ではその配線幅が10 nmを下回るに至り、HDD製造ではヘッドとメディアのクリアランスも10 nmを切るまでに至っています。FPDにおいてはテレビ、モニタなどの大画面化と高画質化が求められ、3 m角の大型ガラス基板上に画素の欠陥の存在は許されません。このように微細加工技術が向上し、より高性能な電子デバイスを製造するには、その周辺の粒子管理が重要であり、液中パーティクルカウンタはその測定器として重要な地位を占めています。

半導体製造においてはウェハに付着した微粒子は洗浄工程で取り除きます。また、発塵を抑えなければならない製品においては、構成する部品自体の発塵が製品の品質、性能に大きく影響を及ぼすため、個々に洗浄し、その効果を測定しなければなりません。
効率よく確実な洗浄を行うためには使用前の洗浄液の粒子数、洗浄液の最適供給量、洗浄槽のオーバーフロー量、最適な洗浄時間、リサイクルした洗浄液の清浄度の確認など様々な要素に対して管理を行う必要があります。
これらの要素とスループットや歩留りなどの関係を明らかにし、問題点を解決する手段として液中パーティクルカウンタによる粒子計測が有効です。特に洗浄槽の供給・循環ラインにパーティクルカウンタを直結し、連続的にモニタリングすることで洗浄槽内や洗浄ラインの粒子数の変動を読み取り、生産ラインの改善を科学的に行うことができます。

測定には、製造ラインにセンサを組み込んで測定を行うインライン測定と、サンプルを採取して測定を行うバッチ測定(オフライン測定)があります。

• インライン測定システム
• バッチ測定システム